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酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

堿性蝕刻液循環(huán)再生回用裝置,機架,廢液暫存槽,所述機架側(cè)面設(shè)置有控制器,所述機架上方設(shè)置有電解反應(yīng)槽,所述電解反應(yīng)槽內(nèi)部設(shè)置有硫酸銅反萃液槽,所述硫酸銅反萃液槽與所述電解反應(yīng)槽之間設(shè)置有單向膜,所述電解反應(yīng)槽旁邊設(shè)置有二級水洗槽,所述二級水洗槽旁邊設(shè)置有三級萃取槽,所述三級萃取槽連接有所述廢液暫存槽,所述廢液暫存槽連接有蝕刻生產(chǎn)線,所述蝕刻生產(chǎn)線另一端連接有再生液暫存槽,所述再生液暫存槽旁邊設(shè)置有再生液調(diào)配槽,所述再生液調(diào)配槽內(nèi)部設(shè)置有濃度檢測計,所述二級水洗槽連接有萃取油中轉(zhuǎn)槽。有益效果在于:可以實現(xiàn)循環(huán)利用蝕刻液,減少環(huán)境污染,降低生產(chǎn)成本。蝕刻廢液屬于危險液體廢物,含有大量的銅、氯等污染成分。酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

Cu+含量的影響:根據(jù)蝕刻反應(yīng)機理,隨著銅的蝕刻就會形成一價銅離子。較微量的Cu+就會明顯的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個低的范圍內(nèi)。 c、Cu2+含量的影響:溶液中的Cu2+含量對蝕刻速率有一定的影響。一般情況下,溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時,蝕刻速率較低;在2mol/L時速率較高。隨著蝕刻反應(yīng)的不斷進(jìn)行,蝕刻液中銅的含量會逐漸增加。當(dāng)銅含量增加到一定濃度時,蝕刻速率就會下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率,必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內(nèi)。 d、溫度對蝕刻速率的影響:隨著溫度的升高,蝕刻速率加快,但是溫度也不宜過高,一般控制在45~55℃范圍內(nèi)。溫度太高會引起HCl過多地?fù)]發(fā),造成溶液組分比例失調(diào)。另外,如果蝕刻液溫度過高,某些抗蝕層會被損壞。酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備蝕刻廢液中的銅含量降低以后,經(jīng)調(diào)整可以回到蝕刻線上回用。

氫氧化鉀(KOH)和添加劑2-丙醇(異丙醇,IPA)通常用于單晶硅片的堿性織構(gòu)化,以減少其反射。氫氧化鉀和異丙醇在水中的蝕刻混合物需要明確定義氫氧化鉀和異丙醇的水平,以消除鋸損傷,并獲得完全隨機金字塔覆蓋的紋理。蝕刻速率和紋理化工藝取決于鍍液溫度、氫氧化鉀濃度、硅濃度和異丙醇濃度等。在此過程中,由于異丙醇的沸點較低(82℃),鍍液的組成發(fā)生了變化。在這個過程中它很容易蒸發(fā),必須定期重做。為了簡化添加劑和獲得更高的初始異丙醇濃度,應(yīng)該測量和控制它。這可以通過高效液相色譜(HPLC)作為直接方法或表面張力作為間接方法來實現(xiàn)。異丙醇具有表面活性,可降低溶液的表面張力。由于異丙醇被頻繁重做,紋理浴的異丙醇濃度保持恒定是可能的。

涉及酸性蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,尤其為一種酸性蝕刻液循環(huán)回用裝置,包括回用裝置主體,除雜室,隔板以及分離室,所述密封外殼上方固定安裝有安裝架,所述安裝架內(nèi)部固定安裝有除菌棉層,所述除菌棉層頂部固定安裝有雜質(zhì)濾層,所述隔板另一側(cè)固定開設(shè)有分離室,所述分離室內(nèi)部頂端固定安裝有電機,所述泵機底部固定安裝有旋轉(zhuǎn)軸,所述旋轉(zhuǎn)軸底部固定安裝有固定架,所述固定架下方固定安裝有高分子透析層,所述隔板內(nèi)部固定開設(shè)有管道,實用新型通過設(shè)置的高分子透析層,在設(shè)備使用時,通過泵機抽取初步過濾的酸性蝕刻液,通過高分子透析層過濾出金屬物質(zhì),達(dá)到分離液體與金屬的目的,使得設(shè)備使用時,達(dá)到回用且排放達(dá)標(biāo)的目的。蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染。

提高酸性蝕刻液再生回用率的系統(tǒng),其包括蝕刻產(chǎn)線,電解裝置,添加裝置,再生液調(diào)配裝置以及再生液ORP提升裝置,蝕刻產(chǎn)線的富銅酸性蝕刻廢液經(jīng)電解裝置電解后成氯氣和貧銅電解清液,貧銅電解清液與蝕刻產(chǎn)線的低ORP酸性蝕刻液混合形成再生酸性蝕刻液,再生液ORP提升裝置對酸性蝕刻液進(jìn)行逆流噴射,并與氯氣碰撞,獲得高ORP酸性蝕刻再生液再返回蝕刻產(chǎn)線。本申請通過再生液ORP提升裝置的設(shè)置,獲得高ORP酸性蝕刻再生液再返回蝕刻產(chǎn)線,以提高蝕刻產(chǎn)線上酸性蝕刻液的ORP,替代了傳統(tǒng)蝕刻產(chǎn)線添加氧化劑與鹽酸的方式,提高了蝕刻廢液的再生回用率,降低了化學(xué)劑的使用和廢水的排放。溶銅能力高,蝕刻容易控制。酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

蝕刻速度越快,板子在蝕刻液中停留的時間越短。酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

堿性蝕刻液再生循環(huán)技術(shù)實現(xiàn)步驟:所述電解單元包含電解槽和反萃劑循環(huán)槽,所述反萃槽與反萃劑循環(huán)槽相連,所述電解槽與反萃槽相連,且所述反萃劑循環(huán)槽的反萃劑輸送出口與電解槽相連。其中,所述調(diào)配單元包括過濾器和調(diào)配槽,所述萃取槽與過濾器的入口相連,所述過濾器的出口與調(diào)配槽相連,且所述調(diào)配槽與蝕刻缸相連。其中,所述調(diào)配槽內(nèi)設(shè)有再生劑和溶解裝置,所述再生劑采用液氨,所述溶解裝置采用微孔溶氣裝置。其中,所述調(diào)配槽內(nèi)配有攪拌裝置和動力輸送設(shè)備,攪拌裝置采用機械攪拌,且所述調(diào)配槽通過動力輸送口連接蝕刻缸。其中,所述過濾器為微孔PP濾芯低壓過濾器。酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

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