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堿蝕刻液再生循環(huán)及銅回收裝置，解決現(xiàn)有再生循環(huán)技術(shù)循環(huán)時(shí)間短、陰極銅品位差等問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本技術(shù)提供一種堿性蝕刻液再生循環(huán)及銅回收的裝置，包括萃取單元、反萃單元、電解單元和調(diào)配單元；蝕刻缸內(nèi)產(chǎn)生堿性蝕刻廢液并經(jīng)管道溢流進(jìn)入蝕刻廢液收集槽，所述萃取單元與蝕刻廢液收集槽與相連且降低堿性蝕刻廢液中銅離子含量；所述反萃單元與萃取單元相連且將萃取單元攜帶的銅離子變?yōu)橐纂娊饣厥浙~；所述電解單元與反萃單元相連且回收銅；所述調(diào)配單元與萃取單元相連且將經(jīng)萃取后的蝕刻廢液變?yōu)榭墒褂玫奈g刻添加子液，且所述調(diào)配單元還與蝕刻缸相連。用耐酸性抗蝕材料做抗蝕保護(hù)層時(shí)，使用的是酸性蝕刻液。吉安酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

常見酸性蝕刻廢液電解處理的困擾酸性lu化銅蝕刻工藝為現(xiàn)時(shí)電路板行業(yè)中常用的蝕刻工藝,其蝕刻廢液的主要成分為lu化銅、lu化亞銅、鹽酸及其他lu化鹽等,銅離子濃度通常為120g/L左右.目前業(yè)界對(duì)此蝕刻廢液的處理方法為收集后統(tǒng)一交給危險(xiǎn)化學(xué)廢物回收公司進(jìn)行處理,也有部分電路板生產(chǎn)廠家使用電解法自行處理.在現(xiàn)有電解回收工藝過程中,其陰極板上產(chǎn)生的金屬銅可被回收利用,而陽極板上所析出的大量有毒lu氣則幾乎無法有效地被循環(huán)回用到蝕刻生產(chǎn)線上,只能作外排處理.無法真正實(shí)現(xiàn)循環(huán)再用的環(huán)保工藝要求.其次,為了在電解過程中使其電解液盡量能夠吸收更多l(xiāng)u氣,唯有光靠降低蝕刻液的氧化還原電位不惜蝕刻生產(chǎn)效率來實(shí)現(xiàn)目的,這種工藝方法是不可取的。吉安酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備蝕刻液容易再生與回收，從而減少污染。

蝕刻液回收利用工藝,包括下列步驟:S1,碳酸鈉溶液的制備:將碳酸鈉固體溶解于一定質(zhì)量的水中得到碳酸鈉溶液,并將制備的碳酸鈉溶液置于反應(yīng)容器中,且碳酸鈉溶液中碳酸鈉與水的質(zhì)量比為1:2。53。5,并將碳酸鈉溶液的溫度保持在3040℃;S2,酸性蝕刻液的滴加:向反應(yīng)容器中滴加酸性蝕刻液,在滴加酸性蝕刻液的同時(shí)使用攪拌器對(duì)反應(yīng)容器內(nèi)的液體進(jìn)行攪拌,并保持反應(yīng)容器內(nèi)的反應(yīng)溫度為3050℃,反應(yīng)終點(diǎn)的pH值為7。5～8。5;S3,靜置沉降:停止攪拌并靜置得到堿式碳酸銅沉淀;S4,回收堿式碳酸銅:將沉淀在反應(yīng)容器中的堿式碳酸銅取出,清洗并烘干,得到堿式碳酸銅產(chǎn)品。本發(fā)明能有效降低酸性蝕刻液廢水中的銅離子濃度,且能實(shí)現(xiàn)銅資源的回收。

蝕刻液應(yīng)具備的技術(shù)性能：1、蝕刻液能滿足抗蝕保護(hù)層(或抗電鍍保護(hù)層)的性能要求。2、工藝條件范圍寬，作業(yè)環(huán)境相對(duì)良好，且能有效地實(shí)行自動(dòng)控制。3、藥效穩(wěn)定，能連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)和再生，使用壽命長。4、蝕刻系數(shù)大，側(cè)蝕小。5、溶銅量大。6、污水處理較容易。蝕刻廢液經(jīng)銅回收后, 可補(bǔ)充有效成份,使其獲得再生而被循環(huán)使用。氯化銅型蝕刻液的性能特點(diǎn)：按性質(zhì)來分,可分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩大類。酸性蝕刻液又可分為：單液型酸性蝕刻液和雙液型酸性蝕刻液。用耐酸性抗蝕材料做抗蝕保護(hù)層時(shí)，使用的是酸性蝕刻液。用耐堿性抗電鍍材料做抗電鍍保護(hù)層（電鍍錫或錫/鉛）時(shí),使用的是堿性蝕刻液。蝕刻質(zhì)量的提高與蝕刻速率的加快有很大關(guān)系。

蝕刻液配制系統(tǒng),包括:多個(gè)單酸貯池組,至少一個(gè)混合貯池,至少一個(gè)成品混酸貯池,至少一個(gè)蝕刻設(shè)備貯池,所述的蝕刻液配制系統(tǒng)還包括有:至少一個(gè)回收貯池,至少一個(gè)壓濾機(jī),至少一個(gè)過濾貯池,至少一個(gè)沉淀貯池組,至少一個(gè)廢液貯池和至少一個(gè)廢液池。本發(fā)明可對(duì)蝕刻廢液進(jìn)行回收利用,解決了蝕刻領(lǐng)域蝕刻廢棄藥液直接排放造成使用和處理成本過高等問題,降低了生產(chǎn)成本,而且也有利于環(huán)保。另外,本發(fā)明還配備濃度自動(dòng)測(cè)定儀,混合貯池中設(shè)置有稱重裝置,可以自動(dòng)完成配比,杜絕人為計(jì)算配比出現(xiàn)偏差,提高配制精度。蝕刻液回收氯化銨的處理系統(tǒng)，包括中和處理段、壓濾段、離子交換處理段、蒸發(fā)段和后處理段。吉安酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

蝕刻速率：蝕刻速率慢會(huì)造成嚴(yán)重側(cè)蝕。吉安酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

蝕刻液是什么?由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水組成。氟化銨：分子式為NH4F，白色晶體，易潮解，易溶于水和甲醇，較難溶于乙醇，能升華，在蝕刻液中起腐蝕作用，一般選用工業(yè)產(chǎn)品。草酸：在蝕刻液中作還原劑使用，一般選用工業(yè)產(chǎn)品。硫酸鈉：在蝕刻液中作為填充劑使用，一般選用工業(yè)產(chǎn)品。氫氟酸：即氟化氫的水溶液，為無色液體，能在空氣中發(fā)煙，有強(qiáng)烈腐蝕性和毒性，能侵蝕玻璃，需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中，可作為蝕刻玻璃的主要原料，一般選用工業(yè)品。吉安酸堿蝕刻液回用及提銅設(shè)備

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