以SMT制程來(lái)說(shuō),「水洗制程」與「免洗制程」的比較大差異在錫膏中助焊劑的成份不同,波焊制程就純粹是爐前助焊劑的成份,這是因?yàn)橹竸?flux)的主要目的在去除被焊接物的表面張力及氧化物以取得潔凈的焊接表面,而去除氧化的適宜良藥當(dāng)屬「酸」及「鹽」這類化學(xué)藥劑,但是「酸」及「鹽」具有腐蝕性,如果殘留在PCB表面,會(huì)隨著時(shí)間而腐蝕銅面,造成嚴(yán)重質(zhì)量不良。
其實(shí),既使是使用免洗制程生產(chǎn)出來(lái)的板子,如果助焊劑的配方不當(dāng)(通常是用到一些來(lái)路不明的錫膏,或是有特別強(qiáng)調(diào)吃錫效果或可以去氧化物的錫膏時(shí),因?yàn)檫@些錫膏的助焊劑通常會(huì)添加弱酸)或是助焊劑殘留過(guò)多,時(shí)間久了錫膏與空氣中的濕氣與污染物質(zhì)混合后也可能對(duì)電路板的銅面造成腐蝕現(xiàn)象。當(dāng)板子有被腐蝕風(fēng)險(xiǎn)時(shí),清洗還是必要的。所以,并不是說(shuō)「免洗制程」的板子就一定不需要清洗,當(dāng)然能不水洗就不要水洗,畢竟水洗很麻煩。
清洗劑是不是危險(xiǎn)品?泰州半導(dǎo)體清洗劑特點(diǎn)
清洗考慮要點(diǎn)
在PCB和PCBA行業(yè),清洗考慮要點(diǎn)主要有以下內(nèi)容(其中也包括了電子產(chǎn)品半導(dǎo)體元件清洗):
1、焊后/清洗后殘留物的檢測(cè)和分析是組件清洗過(guò)程重要的一部分,影響組裝線路板清洗過(guò)程效果的因素。2、元器件幾何形狀
3、器件托高高度及對(duì)清洗的影響
4、夾裹的液體
5、元器件問(wèn)題及殘留物
6、來(lái)自元器件的污染物
7、元器件退化
8、其它元器件清洗考慮要點(diǎn)
9、表面的潤(rùn)濕
10、表面張力和毛細(xì)力
11、填充間隙對(duì)比未填充間隙
12、助焊劑殘留物可變性
13、清洗劑效果 徐州半導(dǎo)體清洗劑特點(diǎn)半導(dǎo)體清洗劑成分介紹。
另外,有些特殊目的情況下也會(huì)要求將免洗制程的板子拿去水洗,比如說(shuō):
單賣PCBA給終端客戶者,希望板子的表面干凈,給客戶良好的外觀印象。
PCBA的后續(xù)制程中需要增加電路板表面附著度者。比如說(shuō)三防膠(Conformalcoating)涂布需要通過(guò)百格測(cè)試需求者。
或是為了避免錫膏殘留物產(chǎn)生不必要的化學(xué)反應(yīng)者,比如說(shuō)灌膠(Potting)制程。
免洗制程殘留的助焊劑在潮濕環(huán)境下會(huì)產(chǎn)生微導(dǎo)通(阻抗降低),尤其是細(xì)間腳(fine-pitch)零件,比如說(shuō)0201尺寸以下的被動(dòng)組件底部,特別是小間距的BGA封裝,因?yàn)楹更c(diǎn)設(shè)置在零件底部,容易殘留過(guò)多的助焊劑,且濕氣也容易在使用時(shí)溫不用時(shí)冷卻后附著在其下方,久而就之形成微導(dǎo)通,造成漏電流(leakage current)或增加保持電流(retention current)耗電。
許多人會(huì)爭(zhēng)辯說(shuō),溶劑萃取測(cè)試只與松香有關(guān)。這就是J-STD-001需要不斷進(jìn)行更新的原因。它的D版是2005年發(fā)布的。然而在15年后的現(xiàn)在,盡管我們使用的元件越來(lái)越多,且元件底部和PCB表面之間幾乎沒(méi)有間隙,但是新版的H版對(duì)清潔度的要求與D版卻仍是相同的。那么從20世紀(jì)80年代開(kāi)始,過(guò)去的幾十年我們一直在做什么測(cè)試?你猜對(duì)了:溶劑萃?。ㄓ置?ROSE),該測(cè)試方法被應(yīng)用于各種助焊劑和各類應(yīng)用。
除了溶劑萃取外,另一種普遍使用的測(cè)試方法是表面絕緣阻抗測(cè)試(SIR)。以前行業(yè)使用的是侵蝕性水溶性助焊劑;根據(jù)抽樣結(jié)果,在芯片組件下的生產(chǎn)板上,SIR值為500MΩ/每平方(每平方而不是每平方英寸)是可接受標(biāo)準(zhǔn)。我在英特爾公司工作時(shí),該測(cè)試幫助我們發(fā)現(xiàn)了許多問(wèn)題,例如,由于粘合劑中存在空洞,導(dǎo)致粘合劑固化曲線不良,從而截留助焊劑。此外還必須確保沒(méi)有發(fā)運(yùn)在現(xiàn)場(chǎng)可能具有腐蝕性的產(chǎn)品。
清洗劑揮發(fā)性有機(jī)化合物含量。
水基清洗劑很廣用于工業(yè)清洗中塑膠、光學(xué)玻璃鏡片、金屬制品(銅、鐵、鋁、鋼、鋅、合金)等各種材料清洗表面拉伸、切削、防銹、潤(rùn)滑、沖壓作業(yè)過(guò)程中產(chǎn)生的各種顆粒、油污、污漬、油脂等。對(duì)其性能的基本要求如下:
(1)去污清洗能力強(qiáng),對(duì)清洗工件無(wú)損傷,不腐蝕。
(2)不燃不爆,使用安全,不污染環(huán)境。水基清洗劑無(wú)閃點(diǎn),不會(huì)燃燒和;水基清洗劑廢液中和后可直接排放不污染環(huán)境。
(3)無(wú)毒無(wú)害,水基清洗劑不會(huì)像三氯乙烯、三氯甲烷、氟里昂等ODS類溶劑會(huì)因有機(jī)溶劑的揮發(fā)造成對(duì)大氣的臭氧層的破壞以及對(duì)操作工人身心健康的傷害。 水基型清洗劑的使用方法。江蘇去膠清洗劑供應(yīng)
哪里有生產(chǎn)IGBT清洗劑的廠家。泰州半導(dǎo)體清洗劑特點(diǎn)
水基清洗劑的清洗原理水基清洗劑是與水相溶,可以加水稀釋使用的清洗劑,清洗原理是借助其表面活性劑、乳化劑、滲透劑中成分含有的潤(rùn)濕、乳化、分散、滲透、溶解等特性來(lái)對(duì)工件表面進(jìn)行強(qiáng)力清洗。沒(méi)有底部端子器件的PCBA和半導(dǎo)體電子元器件,可以采用噴淋式水基清洗劑或清洗設(shè)備清洗;有底部端子器件的PCBA,則宜采用具有浸泡、超聲波震動(dòng)、空氣攪拌和涌流(射流)技術(shù)的水基清洗設(shè)備來(lái)清洗。乳化水基清洗技術(shù),是利用清洗劑中的有機(jī)溶劑,潤(rùn)濕、膨脹污染殘余物,并借助清洗劑中的表面活性劑的滲透作用,以及清洗劑的沖刷(擊)作用,使成片的污染物如助焊劑等殘余膜產(chǎn)生許多小裂縫;再借助清洗劑(機(jī))持續(xù)不斷的上述沖刷(擊)、膨松、滲透效應(yīng),使成片狀的助焊劑殘余膜上的裂紋越來(lái)赿多,并越來(lái)越來(lái)深。當(dāng)裂紋抵達(dá)產(chǎn)品表面后,清洗劑進(jìn)一步的沖刷(擊)、膨松、滲透作用,就會(huì)沿小片狀污染殘余膜的底部發(fā)展,比較終將污染物剝離下來(lái)。 泰州半導(dǎo)體清洗劑特點(diǎn)
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