酸堿蝕刻液再生回用及銅回收設(shè)備:把蝕刻液中銅分離出來,使其中的銅含量很大降低,這樣,蝕刻廢液中的銅含量降低以后,經(jīng)調(diào)整可以回到蝕刻線上回用,而分離出來的銅可以經(jīng)特殊的方式生成含99.95%的銅板.經(jīng)本技術(shù)處理蝕刻廢液,使廢蝕刻液經(jīng)再生,回到生產(chǎn)回用,這樣企業(yè)不再購買蝕刻子液,實(shí)現(xiàn)污染物的零排放,同時(shí)獲得高純度銅板.運(yùn)用本技術(shù),在降低廢液處理成本的同時(shí),同時(shí)增加了可觀的經(jīng)濟(jì)效益.經(jīng)實(shí)際運(yùn)行測(cè)算,一個(gè)2萬平方的印制板的中型企業(yè),經(jīng)該技術(shù)處理后,每年可凈樣效益230-250萬元,使企業(yè)實(shí)現(xiàn)良好的經(jīng)濟(jì)效益和生態(tài)效益.本公司根據(jù)不同企業(yè)的產(chǎn)能情況.可開發(fā)出不同型號(hào)的處理設(shè)備,其產(chǎn)能及效益(表),本公司有較強(qiáng)的科技研發(fā)能力,可以根據(jù)客戶蝕刻液處理量,研發(fā)相應(yīng)處理能力型號(hào)的設(shè)備,來滿足不同產(chǎn)能企業(yè)的需要。蝕刻液過程中應(yīng)注意的問題:蝕刻系數(shù)就升高,高的蝕刻系數(shù)表示有保持細(xì)導(dǎo)線的能力。金華蝕刻液回用及提銅設(shè)備報(bào)價(jià)
堿性[蝕刻液回收再生系統(tǒng)]設(shè)備采用“萃取分離-電沉積銅”工藝。“萃取分離”是將廢蝕刻液中的銅離子分離出來,使廢蝕刻液獲得再生,再生蝕刻液經(jīng)調(diào)整參數(shù)后,返回蝕刻機(jī)循環(huán)使用?!半姵练e銅”是將萃取分離出來的銅離子電沉積成高純度電解銅。堿性[蝕刻液回收再生系統(tǒng)]設(shè)備是一套高新環(huán)保型、全封閉式系統(tǒng),微廢水排放、零廢液排放及無廢物排放。廢氣處理系統(tǒng),處理后的廢氣達(dá)到國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》GB16297-1996排放。該系統(tǒng)與蝕刻機(jī)相互連接后,自動(dòng)循環(huán)運(yùn)作,進(jìn)行蝕刻液和氨洗水的回收及再生工作,蝕刻效果穩(wěn)定;它的性能優(yōu)越,使用壽命長(zhǎng),能為貴公司創(chuàng)造豐厚的經(jīng)濟(jì)效益。寧德蝕刻液回用及提銅設(shè)備哪家好提銅廢蝕刻液再生回用的特點(diǎn):穩(wěn)定性高,不易產(chǎn)生沉淀。
隨著蝕刻的進(jìn)行,蝕刻液中銅含量不斷增加,比重逐漸升高,當(dāng)蝕刻液中銅濃度達(dá)到一定高度時(shí)就要及時(shí)調(diào)整。在自動(dòng)控制補(bǔ)加裝置中,是利用比重控制器控制蝕刻液的比重。當(dāng)比重升高時(shí),自動(dòng)排放比重過高的溶液,并添加新的補(bǔ)加液,使蝕刻液的比重調(diào)整到允許的范圍。補(bǔ)加液要事先配制好,放入補(bǔ)加桶內(nèi),使補(bǔ)加桶的液面保持在一定的高度。首先在蝕刻液冷卻、靜置情況下,取樣分析清液中的銅濃度,然后根據(jù)分析結(jié)果,確定廢液的排放量。排放量可按下式計(jì)算:排放量=(分析值-規(guī)定值)/分析值 *總體積式中:排放量-從蝕刻槽中排出廢液的體積(l)分析值-由化學(xué)分析得出的銅含量(g/l)規(guī)定值-配方中規(guī)定的銅含量(g/l)總體積-蝕刻槽中蝕刻液的體積(l)原則上是排放多少體積的廢液就補(bǔ)加多少體積的補(bǔ)加液。
酸性氯化銅蝕刻液 1) 蝕刻機(jī)理: Cu+CuCl2→Cu2Cl2 Cu2Cl2+4Cl-→2(CuCl3)2- 2) 影響蝕刻速率的因素:影響蝕刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蝕刻液的溫度等。Cl-含量的影響:溶液中氯離子濃度與蝕刻速率有著密切的關(guān)系,當(dāng)鹽酸濃度升高時(shí),蝕刻時(shí)間減少。在含有6N的HCl溶液中蝕刻時(shí)間至少是在水溶液里的1/3,并且能夠提高溶銅量。但是,鹽酸濃度不可超過6N,高于6N鹽酸的揮發(fā)量大且對(duì)設(shè)備腐蝕,并且隨著酸濃度的增加,氯化銅的溶解度迅速降低。 添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是:在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應(yīng)時(shí),生成的Cu2Cl2不易溶于水,則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜,這種膜能夠阻止反應(yīng)的進(jìn)一步進(jìn)行。過量的Cl-能與Cu2Cl2絡(luò)合形成可溶性的絡(luò)離子(CuCl3)2-,從銅表面上溶解下來,從而提高了蝕刻速率。 酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制。
一種蝕刻液循環(huán)再生及提銅裝置及方法:該技術(shù)的基本原理是將印制線路板堿性蝕刻廢液與酸性氯化銅蝕刻廢液進(jìn)行中和沉淀,生成的堿式氯化銅沉淀用于生產(chǎn)工業(yè)級(jí)硫酸銅;沉淀壓濾母液用于生產(chǎn)堿性蝕刻液;其余廢水經(jīng)金屬鋁肩置換去除銅離子,進(jìn)行蒸發(fā)濃縮生產(chǎn)混合銨鹽。另將三氯化鐵蝕刻廢液投鐵提銅后通入氯氣并蒸發(fā)濃縮,生成三氯化鐵回用于線路板蝕刻。該方法的缺點(diǎn)有以下幾點(diǎn):1.普遍采取分散運(yùn)輸、集中處理的方式,在運(yùn)輸過程中存在跑、冒、滴、漏的現(xiàn)象。據(jù)統(tǒng)計(jì),運(yùn)輸損失達(dá)3%?5%,對(duì)環(huán)境造成了污染;2.均需要向廢液里加入化學(xué)品,從而破壞了廢液成分,無法循環(huán)使用;3.銅回收效率低,產(chǎn)品價(jià)值低,處理成本高,產(chǎn)生廢水處理成本高。蝕刻廢液中的銅含量降低以后,經(jīng)調(diào)整可以回到蝕刻線上回用。深圳堿性蝕刻液回用及提銅服務(wù)廠家電話
蝕刻是一種利用化學(xué)強(qiáng)酸腐蝕、機(jī)械拋光或電化學(xué)電解對(duì)物體表面進(jìn)行處理的技術(shù)。金華蝕刻液回用及提銅設(shè)備報(bào)價(jià)
蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng):在電子線路版(PCB)蝕刻過程中,蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到較佳的蝕刻效果,每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽(NH4CI)及氨水(NH3)。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度較佳水平,蝕刻用過后的(以下稱[用后蝕刻液])溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本系統(tǒng)將大量原本需要排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少量的補(bǔ)充劑及氨水,補(bǔ)償因運(yùn)作時(shí)被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子液,既可達(dá)到蝕刻工藝的要求,又可節(jié)省生產(chǎn)成本。金華蝕刻液回用及提銅設(shè)備報(bào)價(jià)
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