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Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國家的前沿研究中，超過1,000個(gè)開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng)。江蘇超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

    Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨(dú)jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 高精度灰度光刻三維光刻N(yùn)anoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻的發(fā)展。

現(xiàn)代光電設(shè)備在系統(tǒng)的復(fù)雜化與小型化得到了巨大改進(jìn)。一種應(yīng)用需求為使用定制的透鏡陣列來準(zhǔn)直和投射來自線性排列的邊緣發(fā)射激光二極管以形成復(fù)合激光線。消費(fèi)類相機(jī)和投影模塊中的微型光學(xué)元件通常需要多個(gè)元件才能滿足性能規(guī)格。復(fù)雜的組裝對(duì)于需要組合成具有微米間距的線性陣列提出了額外的挑戰(zhàn)。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求，盡管可用的折射率會(huì)導(dǎo)致高度彎曲的表面產(chǎn)生球面像差，從而抑制準(zhǔn)直性能。硅灰度光刻技術(shù)可以在單個(gè)高折射率表面上實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的透鏡形狀，同時(shí)還可以在多個(gè)孔之間提供精確的對(duì)準(zhǔn)和間距。多孔徑透鏡陣列設(shè)計(jì)用于沿快軸準(zhǔn)直激光，并在慢軸上提供±3°發(fā)散角。陣列中的每個(gè)元素還包含偏心和衍射項(xiàng)，以偏置主光線角并與發(fā)散的光錐重疊以形成連續(xù)的激光線。

Quantum X采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn)，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。如果了解雙光子灰度光刻技術(shù)，敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

    基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！?。 想要了解Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。高精度灰度光刻三維光刻

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解微納3D打印和灰度光刻技術(shù)的區(qū)別。江蘇超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

全新的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學(xué)元件。 作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得。全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級(jí)衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。而且Quantum X提供了完全的設(shè)計(jì)自由度、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度?？焖?、準(zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計(jì)迭代周期，實(shí)現(xiàn)了低成本的微納加工。江蘇超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

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